Mask Aligner
如何執行量測?

曝光機 Mask Aligner 如何確認穩定度?

曝光機 Mask Aligner
是製造微機電、光電、二極體大規模積體電路的關鍵裝置。可以分為兩種，分別是模板與圖樣大小一致的contact aligner，曝光時模板緊貼晶圓；以及利用短波長雷射和類似投影機原理的步進式曝光機（英語：stepper）或掃描式曝光機（英語：scanner），獲得比模板更小的曝光圖樣。

曝光機作動原理
生產積體電路的簡要步驟：利用模版去除晶圓表面的保護膜。將晶圓浸泡在腐化劑中，失去保護膜的部分被腐蝕掉後形成電路。用純水洗淨殘留在晶圓表面的雜質。其中曝光機就是利用紫外線波長的準分子雷射通過模版去除晶圓表面的保護膜的裝置。一片晶圓可以製作數十個積體電路，根據模版曝光機分為兩種：模版和晶圓大小一樣，模版不動。模版和積體電路大小一樣，模版隨曝光機聚焦部分移動。其中模版隨曝光機移動的方式，模版相對曝光機中心位置不變，始終利用聚焦鏡頭中心部分能得到更高的精度。來源：維基百科

如何量測

OLVMS-ML 機器學習智能監控系統
固德針對曝光機避震平台做各軸向的量測，可得知各軸向變化，並將振動訊息可視化是把量測到的數值直接轉換成可以直觀形象理解的圖形或圖像表示方式，搭配現場操作人員經驗進而發現製程隱含的訊息做為機台各軸向維修門檻設立或線上監控的依據。利用 OLVMS-ML 機器學習智能監控系統學習正確動作行為作為規範，為各別動作進行監測與診斷，透過系統了解設備在哪一個動作出現異常或不穩定的狀態，提早進行預知保養，避免無預警異常的發生。